的跑驚時時，真空室內殘余氣體分子中，燕氣分子的平均自由程大于蒸發展與基片的距寒時，就會獲得充分的便服條件。因此，把真空室抽成兩其空，頂少現示氣體的分子數、增大殘余氣體分子的平均自由程，使得蒸氣分子與殘余氣體分子的碰撞機會減少，這是非常必要的。

　　當真空度提高時，蒸氣分子從蒸發源到基片的過程中，與殘余分子碰撞的概率下降。因此，真空鍍鋁時在6X 10-2Pa以上能形成良好的膜層。當真空度低時，會出現下述兩種情況:

　　①基片表面吸附著許多殘余氣體分子，當蒸發材料的蒸氣分子到達基片之后，在基片表面殘余氣體分子與蒸發材料的蒸氣分子將產生化合作用，所形成的化合物影響膜的質量。

　　②蒸發材料的蒸氣分子到達基片表面的過程中與殘余氣體分子發生碰撞的概率增加，使得蒸發材料蒸氣分子消耗大量的動能，以致達不到基片表面，即使到達基片表面，其吸附性能也會大大降低。因此膜層松散無力，嚴重時出現粉末狀的附著，一擦即脫落。在實際生產中觀察到，真空室的真空度低于10--Pa時，鋁膜呈灰色，其附著力降低，當真空度更低時，鋁膜呈黑色，附著力很低。