為了使蒸發材料氣化，在真空蒸發過程中，大多數據發材料都必須在10001750C溫度下進行蒸發，因此，必須采用各種加熱方法將蒸發材料加熱，通常把真空設備中對蒸發材料進行加熱的零件稱為蒸發源。蒸發鍍膜的蒸發源有多種形式，如電阻加熱源、電子束加熱源、高頻感應加熱源等，大面積玻璃基片蒸發鍍膜常用電阻加熱源。

　　1電阻蒸發源蒸鍍法

　　采用租、鉬、鎢等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓氣流通過，對蒸發材料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸發材料放人氧化鋁，氧化鈹等坩堝中進行間接加熱蒸發，這就是電阻加熱蒸發法。

　　(1)電阻加熱源

　　電阻加熱源是用高阻抗材料構成，當電流通過加熱源時產生大量的熱能，用此熱量來加熱蒸發材料。加熱源是加熱體和支撐蒸發材料的支承物，形狀有單股絲狀螺旋形、多股絲狀螺旋形、“凹"形舟、方形舟、圓錐形單股絲等，它們是直接加熱蒸發源。間接加熱蒸發源由坩堝和加熱體組成，將粉狀蒸發材料放人坩堝中，加熱體裝在坩堝外面，用加熱體加熱坩堝而間接加熱粉狀蒸發材料。為了加速加熱粉狀蒸發材料及提高加熱效率，將加熱體分成兩部分，一部分裝在坩堝外面，另一部分插人粉狀蒸發材料中，共同加熱粉狀蒸發材料，此種類型則是綜合型加熱蒸發源。電阻蒸發源形狀示意圖如圖4-10所示。