以前人們認為玻璃的拋光與研磨都是磨料對玻璃的機械作用，只是拋光的磨粒更細。英國學者雷萊用顯微鏡觀察到拋光開始， 研磨表面凹陷項部就出現了拋光得極好的不大的區域，隨著拋光而繼續擴大。所以他認為不應該將拋光看作只是從表面剝落玻璃碎屑，而是在拋光物質的作用下，發生分子過程。另一位英國學者培比認為玻璃由于干摩擦產生的熱面培化成-黏滯液在表面流動，并在表面張力的作用下，使玻璃表面光滑。此流動層稱為“培比層”，約為0.025~0. lμm厚。玻璃拋光時，除將研磨后表面的凹陷層(3~4m)全部拋除外，還需要將凹陷層下面的裂紋層(0-~15m)也拋光除去。這個厚度雖比研磨時期除的原龐小將多(僅為研磨時磨去的厚度的140-1/20但是指光過程所第時間卻比研重過程要多(為新廉時間的2倍或更多)，即拋光效豐比研磨放奉低得多。