化學鍍膜最早用于在E光學元件表面制備保護限， 在1817年，Fraunhofer在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃，偶然廣泛的應用。而目前大家公認，次獲得減反射膜， 但該我術當時并改有得到的開始年代是1835璃銀鏡的發明。在此之后，20世紀相地發明↓年德國化學家利比格手工涂鍍坡鍍膜方法。

　　1935 年美國的Strong和德國的Smakula,幾乎同時發明在真空下將氟化鈣蒸發和凝結到玻璃表面上的方法，制成制成單層減反射涂層。1942 年美國的Lyon用沉積到預先加熱的玻璃上的方法，制備出第一個穩定的和耐磨的單層減反射涂層，第二次世界大戰后，這種材料和沉積技術亦變成了標準工藝。

　　1938年美國研制多層誠反射涂層， 不久在歐洲也取得了成功。但是.對多層系統達到技術上完美的解決，是1949年首先由Awarter獲得的這種被稱為"Transmax”的優質減反射雙層涂層，此產品一出現立即供不應求。1965年寬帶三層減反射系統研制成功，那時借助于現代電子計算機，已能較容易而快速地設計出膜系統。

　　高反射涂層的工業研制早于減反射涂層，利用高反射金屬膜可以使玻璃的反射率顯著提高。1835 年以前，已用化學濕選法沉積出銀鏡膜。1912 年Pohl和Pring-sheim首先嘗試了在真空條件下，用各種金屬的蒸發和凝結來沉積鏡面膜，他們用陶瓷坩堝作為蒸發源。1928 年Ritsch也蒸發出銀鏡。1933年Strong找到了一種既簡單又富有成效的蒸發鋁的技術，他用鋁加在螺旋形成的鎢絲蒸發器上，這種技術目前仍經常使用。用鋁蒸發技術制鏡在各方面都優于銀，在可見光范圍，鋁的反射率差不多與銀相同，但在紫外區卻比銀高得多，鋁與玻璃的黏附強于銀，而且當暴露在大氣中時不失去光澤。